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非線(xiàn)性估計(jì)(jì)

  • 電路板維修相關(guān)技術(shù)資料

    電路板故障分析 維修方式介紹 ASA維修技術(shù) ICT維修技術(shù) 沒有線路圖,無從修起 電路板太複雜,維修困難 維修經(jīng)驗(yàn)及技術(shù)不足 無法維修的死板,廢棄可惜 送電中作動(dòng)態(tài)維修,危險(xiǎn)性極高 備份板太多,積壓資金 送國外維修費(fèi)用高,維修時(shí)間長 對(duì)老化零件無從查起無法預(yù)先更換 維修速度及效率無法提升,造成公司負(fù)擔(dān),客戶埋怨 投資大量維修設(shè)備,操作複雜,績效不彰

    標(biāo)簽: 電路板維修 技術(shù)資料

    上傳時(shí)間: 2013-10-26

    上傳用戶:neu_liyan

  • 手持式設(shè)備高功率電池充電器

    隨著許多手持式設(shè)備的性能逐漸接近膝上型電腦,其設(shè)計(jì)復(fù)雜性也在增加。

    標(biāo)簽: 手持式設(shè)備 高功率 電池充電器

    上傳時(shí)間: 2013-10-10

    上傳用戶:蒼山觀海

  • DN502 - 面向精準(zhǔn)放大器應(yīng)用的匹配電阻器網(wǎng)絡(luò)

    某些理想的運(yùn)算放大器配置假定反饋電阻器呈現(xiàn)完美的匹配。而實(shí)際上,電阻器的非理想性會(huì)對(duì)各種電路參數(shù)產(chǎn)生影響,例如:共模抑制比 (CMRR)、諧波失真和穩(wěn)定性

    標(biāo)簽: 502 DN 精準(zhǔn)放大器 匹配電阻

    上傳時(shí)間: 2013-12-19

    上傳用戶:2525775

  • 透過MOSFET電壓電流最佳化控制傳導(dǎo)性及輻射性EMI

    經(jīng)由改變外部閘極電阻(gate resistors)或增加一個(gè)跨在汲極(drain)和源極(source)的小電容來調(diào)整MOSFET的di/dt和dv/dt,去觀察它們?nèi)绾螌?duì)EMI產(chǎn)生影響。然後我們可了解到如何在效率和EMI之間取得平衡。我們拿一個(gè)有著單組輸出+12V/4.1A及初級(jí)側(cè)MOSFET AOTF11C60 (αMOSII/11A/600V/TO220F) 的50W電源轉(zhuǎn)接器(adapter)來做傳導(dǎo)性及輻射性EMI測(cè)試。

    標(biāo)簽: MOSFET EMI 電壓電流 控制

    上傳時(shí)間: 2014-09-08

    上傳用戶:swing

  • 非隔離或隔離式電源驅(qū)別

    非隔離或隔離式電源驅(qū)別

    標(biāo)簽: 非隔離 隔離式電源

    上傳時(shí)間: 2013-10-27

    上傳用戶:dudu1210004

  • 4_10kV三相干式非晶合金變壓器專用技術(shù)規(guī)范

    4_10kV三相干式非晶合金變壓器專用技術(shù)規(guī)范

    標(biāo)簽: 10 kV 三相 非晶

    上傳時(shí)間: 2013-11-20

    上傳用戶:JamesB

  • 非接觸式感應(yīng)充電電路的研制

    非接觸式感應(yīng)充電電路

    標(biāo)簽: 非接觸式 感應(yīng)充電 電路

    上傳時(shí)間: 2013-11-05

    上傳用戶:cjl42111

  • MPP CCD暗電流溫度特性研究

    研究了MPP電荷耦合器件(CCD)暗電流和暗電流非均勻性的溫度特性,并與非MPP CCD的暗電流和暗電流非均勻性的溫度特性進(jìn)行了對(duì)比分析。研究結(jié)果表明,MPP CCD抑制了表面暗電流,相較于非MPP CCD具有較低的暗電流和暗電流非均勻性,可以承受更高的工作溫度。

    標(biāo)簽: MPP CCD 電流 溫度特性

    上傳時(shí)間: 2013-10-23

    上傳用戶:netwolf

  • NIP型非晶硅薄膜太陽能電池的研究

    采用射頻等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積(RF2PECVD)技術(shù)制備非晶硅(a2Si)NIP 太陽能電池,其中電池的窗口層采用P 型晶化硅薄膜,電池結(jié)構(gòu)為Al/ glass/ SnO2 / N(a2Si :H) / I(a2Si :H) / P(cryst2Si : H) / ITO/ Al。為了使P 型晶化硅薄膜能夠在a2Si 表面成功生長,電池制備過程中采用了H 等離子體處理a2Si 表面的方法。通過調(diào)節(jié)電池P 層和N 層厚度和H 等離子體處理a2Si 表面的時(shí)間,優(yōu)化了太陽能電池的制備工藝。結(jié)果表明,使用H 等離子體處理a2Si 表面5 min ,可以在a2Si 表面獲得高電導(dǎo)率的P 型晶化硅薄膜,并且這種結(jié)構(gòu)可以應(yīng)用到電池上;當(dāng)P 型晶化硅層沉積時(shí)間12. 5 min ,N 層沉積12 min ,此種結(jié)構(gòu)電池特性最好,效率達(dá)6. 40 %。通過調(diào)整P 型晶化硅薄膜的結(jié)構(gòu)特征,將能進(jìn)一步改善電池的性能。

    標(biāo)簽: NIP 非晶硅 薄膜太陽能電池

    上傳時(shí)間: 2013-11-21

    上傳用戶:wanqunsheng

  • 關(guān)鍵電源系統(tǒng)可見性及管理

    Active Power提供各種系統(tǒng)可見性和管理工具,使您能更好了解有關(guān)電源的各種事件并最終提高電源系統(tǒng)的可靠性。從將基本數(shù)據(jù)集成 Active Power獨(dú)有的CleanSource View(CSView)監(jiān)控軟件,到全托管式遠(yuǎn)程監(jiān)控服務(wù) – 我們都可為您提供相應(yīng)管理關(guān)鍵電源基礎(chǔ)架構(gòu)所需的系統(tǒng)可見性和服務(wù)。

    標(biāo)簽: 關(guān)鍵電源

    上傳時(shí)間: 2013-11-24

    上傳用戶:685

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