在鋼鐵制造工業(yè)中,高溫熔化狀態(tài)鋼水中的鋼渣檢測問題是一直以來未能很好解決的難題,鋼渣是鋼鐵冶煉過程中的副產(chǎn)品,鋼渣本身會(huì)直接降低鑄坯質(zhì)量進(jìn)而影響生產(chǎn)出的鋼材質(zhì)量,另外鋼渣也會(huì)破壞鋼鐵連鑄生產(chǎn)連續(xù)性給鋼廠效益帶來負(fù)面效應(yīng)。因此連鑄過程中鋼渣檢測是一個(gè)具有較大生產(chǎn)實(shí)際意義的研究課題。 本文以鋼包到中間包敞開式澆注過程中,保護(hù)澆注后期移除長水口后澆注過程中的鋼水下渣檢測為研究對象。在調(diào)研了國內(nèi)外下渣檢測技術(shù)與下渣檢測設(shè)備的應(yīng)用情況后,提出了一套將嵌入式技術(shù)與紅外熱像檢測技術(shù)相結(jié)合的鋼水下渣檢測系統(tǒng)的解決方案,并搭建了系統(tǒng)的原型:硬件系統(tǒng)平臺(tái)以紅外熱像探測器為系統(tǒng)的傳感器,以ARM7嵌入式微處理器與DSP數(shù)字信號處理器為系統(tǒng)運(yùn)算處理核心;軟件系統(tǒng)平臺(tái)包含基于在ARM7上移植的μC/OS-Ⅱ嵌入式操作系統(tǒng)構(gòu)建的嵌入式應(yīng)用程序,以及基于DSP各類支持庫的嵌入式應(yīng)用程序。該下渣檢測系統(tǒng)設(shè)計(jì)方案具有非接觸式檢測、低成本、系統(tǒng)自成一體、直觀顯示鋼水注液狀態(tài)、量化鋼渣含量等特點(diǎn),能夠協(xié)助現(xiàn)場工作人員檢測和判斷下渣,有效減少連鑄過程中鋼包到中間包的下渣量。 本文首先,介紹了課題研究的背景,明確了研究對象,分析了連鑄過程中的鋼水下渣問題,調(diào)研了現(xiàn)有的連鑄過程中鋼包到中間包的鋼水下
上傳時(shí)間: 2013-05-25
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雙基地合成孔徑雷達(dá)(簡稱雙基地SAR或Bistatic SAR)是一種新的成像雷達(dá),也是當(dāng)今SAR技術(shù)的一個(gè)發(fā)展方向,在軍用及民用領(lǐng)域都具有良好的應(yīng)用前景,近年來成為研究的熱點(diǎn)。本文則側(cè)重于研究雙基地SAR的距離一多普勒(R-D)成像算法的實(shí)現(xiàn)。 在雙基地SAR系統(tǒng)及成像算法的研究方面,推導(dǎo)了雙基地SAR的系統(tǒng)分辨特性及雷達(dá)方程,分析了主要系統(tǒng)參數(shù)之間的約束關(guān)系。針對正側(cè)視機(jī)載雙基地SAR系統(tǒng),本文對距離一多普勒算法進(jìn)行了推廣。最后得到點(diǎn)目標(biāo)的仿真結(jié)果。 在成像算法的FPGA實(shí)現(xiàn)上,在System Generator環(huán)境下對算法進(jìn)行定點(diǎn)仿真。完成距離一多普勒成像算法的硬件實(shí)現(xiàn),其中包括了FFT快速傅立葉變換、硬件乘法器、:Rocket I/O接口設(shè)計(jì)、DCM數(shù)字時(shí)鐘管理等主要部分。針對硬件實(shí)現(xiàn)的特點(diǎn),對算法的部分運(yùn)算進(jìn)行了簡化。 為了對算法實(shí)現(xiàn)進(jìn)行驗(yàn)證,設(shè)計(jì)開發(fā)了該算法的硬件測試平臺(tái)。主要基于ML310評估板上XC2VP30芯片中嵌入的Power PC 405,完成其硬件部分的設(shè)計(jì),主要包括了Aurora協(xié)議接口、RS-232串行接口、DDR RAM接口以及其它如中斷、時(shí)鐘等部分。
上傳時(shí)間: 2013-07-26
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·紅外成像制導(dǎo)導(dǎo)彈自動(dòng)目標(biāo)識別應(yīng)用現(xiàn)狀的分析
標(biāo)簽: 紅外成像 制導(dǎo) 分 導(dǎo)彈
上傳時(shí)間: 2013-07-29
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·詳細(xì)說明:北京航空航天大學(xué)電子信息工程學(xué)院 許小劍編的《雷達(dá)成像原理》word版
上傳時(shí)間: 2013-04-24
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·詳細(xì)說明:美國機(jī)械工程師手冊英文原版 內(nèi)有大量PDF文件 可供閱讀 可以給你很大提高
上傳時(shí)間: 2013-06-17
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針對準(zhǔn)確測量油氣水多相流各分相含量的問題,采用了電容層析成像技術(shù)完成油氣水多相流各分相含量測量。通過仿真分析了采用有限元分析方法的電極間的靈敏度特性,探討了測量中的"軟場"特性;結(jié)合靈敏度的分析,對單元濾波圖象重建進(jìn)行了仿真對比,得到單元濾波對圖像重建有很大的改善。說明采用電容層析成像技術(shù)測量各分相含量的方案是可行的。
上傳時(shí)間: 2013-10-15
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各研究機(jī)構(gòu)提出了像素補(bǔ)償電路用于改善OLED的均勻性和穩(wěn)定性等問題,文中對目前采用有源OLED的α-Si TFT和p-Si TFT的各種像素補(bǔ)償電路進(jìn)行了分析。分析結(jié)果表明,文中設(shè)計(jì)方案取得了一定的效果,但尚存不足。
標(biāo)簽: AMOLED TFT 穩(wěn)定性 像素
上傳時(shí)間: 2013-11-21
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諸如電信設(shè)備、存儲(chǔ)模塊、光學(xué)繫統(tǒng)、網(wǎng)絡(luò)設(shè)備、服務(wù)器和基站等許多復(fù)雜繫統(tǒng)都采用了 FPGA 和其他需要多個(gè)電壓軌的數(shù)字 IC,這些電壓軌必須以一個(gè)特定的順序進(jìn)行啟動(dòng)和停機(jī)操作,否則 IC 就會(huì)遭到損壞。
上傳時(shí)間: 2014-12-24
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數(shù)字電子技朮
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上傳時(shí)間: 2013-10-09
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在醫(yī)用電阻抗層析成像(Electrical Impedance Tomography)系統(tǒng)中電壓控制電流源的性能十分重要,大部分報(bào)道的電壓控電流源電路在低頻時(shí)有較高的輸出阻抗但是在高頻時(shí)性能大幅減弱。通過分析生物阻抗測量系統(tǒng)對電壓控制電流源的需求,同時(shí)回顧一些已有的電壓控制電流源電路,包括雙運(yùn)放負(fù)反饋電路、跨導(dǎo)運(yùn)算放大器、AD844,設(shè)計(jì)了一種基于AD8610的電壓控制電流源。并通過電路實(shí)驗(yàn)驗(yàn)證了此電壓控制電流源的性能,同時(shí)提出了改進(jìn)方案。該電壓電流源不僅頻率和幅值可控、精度高,而且有較高的輸出阻抗。
標(biāo)簽: 電阻抗 成像系統(tǒng) 電壓控制 電流源
上傳時(shí)間: 2013-11-05
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